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單晶槽式制絨設備

  • 産品詳細

設備名稱 Equipment Name

單晶槽式制絨設備 Mono-crystalline Batch Texturing Equipment

設備型號 Equipment Model

SC-CSZ8000E-15F

設備用途 Equipment Application

主要對單晶硅太陽能電池用硅片進行絨面腐蝕和清洗處理。
Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

工藝流程 Processing Steps

去損傷→預清洗→單晶制絨→後處理→酸洗→預脫水→烘幹  
Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Postcleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)


技術特點  Features

1. 産能:400PCS/批 8000PCS/H。
Throughput: 400PCS/batch, 8000PCS/H.

2. 工藝槽循環量可調。
Process Bath circulation volume adjustable.

3. 制絨金字塔均勻,刻蝕深度可調。
Uniform pyramids texture, etch depth adjustable. 

4. 支持最薄120μm硅片。
Wafer thickness down to 120μm.

5. 潔淨幹燥區域,自潔淨幹燥系統。
With clean dry area and self-clean dry system.

6. 可以實現H2O2 free。
H2O2 free.

7. 快速換液,在線換液。
Quick inline bath change.

8. 支持MES、RFID及選配在線稱重功能。
Suitable with MES, RFID and inline weight testing optional.


設備參數 Parameters