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                                鏈式酸抛光清洗設備

                                • 産品詳細

                                設備名稱 Equipment Name

                                鏈式酸抛光清洗設備  Inline Acid Polishing Equipment

                                設備型號 Equipment Model

                                SC-LSP4500/ SC-LSP8000

                                設備用途 Equipment Application

                                對單、多晶硅片進行刻蝕/抛光、清洗、幹燥。
                                Etching/polishing, cleaning and drying of mono/multi crystalline solar cells.

                                工藝流程 Process Flow

                                正面保護→刻蝕/抛光→堿洗→酸洗→烘幹
                                Water layer protection→Etching/Polishing→Alkaline cleaning→Acid Cleaning→Drying.

                                技術特點  Features

                                1. 高産能:4500PCS/5道,8000PCS/10道。
                                High Throughput: 4000pcs/h, 5 lanes; 8000pcs/h, 10 lanes.

                                2. 高均勻性,超長藥液壽命。
                                Excellent Uniformity, long bath life time.

                                3. 支持多種添加劑或混合添加劑技術。
                                Various additives or mixed additives technology.

                                4. 支持最薄120μm硅片。
                                Wafer thickness down to 120μm.

                                5. 快速換液,在線換液。
                                Quick inline bath change.

                                6. ⽀持背面抛光工藝,超低藥耗。
                                Suitable for rear side polishing and with low chemical consumption.

                                7. ⽀持MES,選配在線稱重檢測。
                                Suitable with MES ; Inline weight testing is optional.

                                8. 兼容酸抛光功能。
                                Compatible with acid polish function.

                                設備參數  Parameters