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鏈式酸抛光清洗設備

  • 産品詳細



設備名稱 Equipment Name
· 鏈式酸抛光清洗設備  Inline Acid Polishing Equipment

設備型號 Equipment Model
· SC-LSP4500/ SC-LSP8000

設備用途 Equipment Application
· 對單、多晶硅片進行刻蝕/抛光、清洗、幹燥。
 Etching/polishing, cleaning and drying of mono/multi crystalline solar cells.

工藝流程 Process Flow
· 正面保護→刻蝕/抛光→堿洗→酸洗→烘幹
  Water layer protection→Etching/Polishing→Alkaline cleaning→Acid Cleaning→Drying.

技術特點  Features

· 高産能:4500PCS/5道,8000PCS/10道。
  High Throughput: 4000pcs/h, 5 lanes; 8000pcs/h, 10 lanes.

· 高均勻性,超長藥液壽命。
  Excellent Uniformity, long bath life time.

· 支持多種添加劑或混合添加劑技術。
  Various additives or mixed additives technology.

· 支持最薄120μm硅片。
  Wafer thickness down to 120μm.

· 快速換液,在線換液。
  Quick inline bath change.

· ⽀持背面抛光工藝,超低藥耗。
  Suitable for rear side polishing and with low chemical consumption.

· ⽀持MES,選配在線稱重檢測。
  Suitable with MES ; Inline weight testing is optional.

· 兼容酸抛光功能。
  Compatible with acid polish function.

設備參數  Parameters